В производственном процессе распыления целевых материалов горячие и холодные системы играют ключевую роль и оказывают важное влияние на свойства материала, эффективность производства и срок службы оборудования. Ниже приведены основные требования горячих и холодных систем в производственном процессе распыления целевых материалов:
I. Связывание плавления и спекания
1. Высокая температурная контроль
- В процессе плавления оборудование, такое как вакуумная дуга, должна работать в условиях, превышающих температуру плавления материала (например, температура плавления титана составляет 1668 градусов) и находится в среде с высоким вакуумом или защитой от инертного газа, чтобы предотвратить окисление материала.
- Процесс спекания требует температуры 1300-1500 степени. Точно точно контролируя скорость нагрева и время удержания, частицы материала могут быть металлургически связаны, чтобы увеличить плотность целевого материала.
2. Управление скоростью охлаждения
- Когда жидкий материал затвердевает, скорость охлаждения повлияет на структуру зерна. Чтобы избежать трещин или сегрегации, требуется контроль температуры плесени или медленное охлаждение.
II Ссылка на термообработку
Точный контроль температуры
- Температура отжига или обработки раствора, как правило, устанавливается на 800-1000 степень, а колебания температуры необходимо контролировать в пределах ± 5 градусов, чтобы улучшить вязкость и микроструктуру материала.
- При охлаждении может использоваться воздушное охлаждение или водяное охлаждение, но охлаждение должно быть равномерным, чтобы предотвратить деформирование целевого материала из -за теплового напряжения.
Iii. Ссылка на процесс распыления
1. Эффективные требования к охлаждению
- Целевое охлаждение: во время среднечастотного процесса распыления магнетрона поверхность целевого материала будет генерировать высокую температуру (температура может превышать 200 градусов) из-за электронного бомбардировки, поэтому требуется система водяного охлаждения, такую как использование водяного курка или циркулирующего чиллера воды для контроля целевой температуры ниже 60 градусов, чтобы избежать деформации деграда или производительности целевого материала.
- Оборудование тепловое рассеяние: среднечастотный источник питания, головка магнетрона и другие компоненты в оборудовании для расщепления нагревается из-за текущего эффекта кожи, и их необходимо вовремя охлаждать с помощью водяного охлаждения или воздушного охлаждения, чтобы оборудование могло работать стабильно.
2. Точность контроля температуры
- Температура охлаждающей воды должна быть стабильной при ± 0. 1 градус, и скорость потока необходимо управлять более чем 0. 5L/мин, чтобы гарантировать, что распределение температуры целевого материала является равномерным, тем самым улучшая качество пленки.
IV Ссылка на пост-обработку
1. Пошаговый дизайн охлаждения
- Используется трехступенчатая система охлаждения, за которой следует чистка воды с нормальной температурой, быстрое охлаждение льда и сушка холодного воздуха. Это может избежать внутреннего напряжения целевого материала из -за внезапного охлаждения, а также может удалить примеси на поверхности.
- Например, в первой камере охлаждения используется нормальная циркулирующая вода температуры для очистки и предварительного охлаждения, вторая охлаждающая камера использует ледяную воду для быстрого охлаждения, а в третьей камере охлаждения используется холодный воздуходувка для сушки.
2. Примеси фильтрационная циркуляция
- Система циркуляции охлаждающей воды должна быть оснащена фильтрационным устройством, таким как экран фильтра или фильтровая пластина, чтобы удалить примеси, такие как металлический мусор, генерируемый во время обработки целевого материала, чтобы предотвратить засорение сопла или загрязнение целевого материала.